深圳市帝龍科技有限公司是一家專業銷售環保涂裝設備的企業、涂裝設備、廢氣處理設備、粉塵處理設備是我們公司的主要產品,深圳市帝龍科技有限公司以熱情周到、方便快捷的售前、售后服務,使我們贏得越來越多的客戶和市場,也使我們更有信心與貴公司攜手并進,開創未來。公司自成立以來堅持以“客戶需求”為導向,以“行業變革大趨勢”為發展方向,以“誠信、溝通”為宗旨,以“技術、服務”為立業之本深圳市帝龍科技有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業界的認可,歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和洽談業務。
最佳回答:
你這廢氣達到排放標準的話,這個要和檢測部門溝通問一下可不可以不裝。個人建議還是裝一下,求個心安理得,要不然哪天超標了,這家光氧廢氣處理設備你可以看一下。
其他答案1:
這個我不能準確的回答你,因為每間廠房車間產生的廢氣濃度都不一樣,環保設備的規格不是死板的,而是隨著廠房的環境去調整環保設備的配置的,這個要看廢氣濃度,如果風量大了就浪費了,風量小了也不行,所以我建議你找專業的廠家萬川環保工程去咨詢這個問題。
其他答案2:
帶領下融為一體
廢氣處理設備及價格,我想開辦一個小型廢品熱加工回收再利用工廠(有機裂解過程),生產過程會產生廢氣,考慮到環保要求需要廢氣處理,所以想了解下現在市場上關于廢氣處理這一塊的設備以及價格情況,好對投資回報率有個了解。
最佳回答:
對于很多中小型企業,如印刷廠、油漆廠、印染廠等,如何做好廢氣處理成了頭疼的事情。林森給大家介紹一下光氧催化廢氣處理。
光氧催化廢氣處理,本技術具有高效除惡臭、無需添加任何物質、適應性強、連續運行穩定可靠、運行成本低、設備占地面積小,自重輕等優勢,采用先進技術理念,可徹底分解工業廢氣中有害物質,并能達到良好的脫臭、凈化效果,不產生二次污染,同時達到高效消毒殺菌的作用。
光氧催化廢氣處理設備還具有安全、防爆特性,已通過相關檢測的防爆合格認證。主要用于惡臭氣體的脫臭凈化處理,適用于煉油廠、橡膠廠、皮革廠、油漆廠、化工廠、制藥廠、印刷廠、污水處理廠、垃圾轉運站等行業。
大家都知道,臭氧對惡臭氣體及其它刺激性異味有很強的清除效果,作為強氧化劑進行廢氣氧化,裂解惡臭氣體分子鍵,破壞細菌的核酸,再通過臭氧進行氧化反應,達到脫臭及殺滅細菌的目的。
泰州林森環境工程的廢氣處理設備已廣泛應用于上百家大中小型企業的環保污染治理項目,贏得了良好信譽和口碑,深得客戶好評,歡迎大家前來詳談。
其他答案1:
廢氣處理設備有很多種,不同的設備價格是不同。需要清楚您是具體需要哪種設備,才能好判斷價格。
廢氣處理設備,主要是指運用不同工藝技術,通過回收或去除、減少排放尾氣的有害成分,達到保護環境、凈化空氣的一種環保設備。
分類:
吸收設備
吸收法采用低揮發或不揮發性溶劑對VOCs進行吸收,再利用VOCs和吸收劑物理性質的差異進行分離。
含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內,在上升過程中與來自塔頂的吸收劑逆流接觸,凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后,進入汽提塔頂部,在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應的工藝調整。
吸附設備
在用多孔性固體物質處理流體混合物時,流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上,此現象稱為吸附。吸附處理廢氣時,吸附的對象是氣態污染物,氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質,多孔固體物質稱為吸附劑。
固體表面吸附了吸附質后,一部被吸附的吸附質可從吸附劑表面脫離,此現附。而當吸附進行一段時間后,由于表面吸附質的濃集,使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求,此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質脫附,以協的吸附能力,這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循環過程,達到除去廢氣中污染物質并回收廢氣中有用組分。
凈化設備
燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒,大多數生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時,燃燒生成產物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進一步處理。
治理設備
等離子體就是處于電離狀態的氣體,其英文名稱是plasma,它是由美國科學 muir,于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現象時命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發態原子、光子和自由基等組成,但電子和正離子的電荷數必須體表現出電中性,這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同,因此又有人把它稱為物質的第四種狀態。根據狀態、溫度和離子密度,等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態,它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態,各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。
截至2013年,對低溫等離子體的作用機理研究認為是粒子非彈性碰撞的結果。低溫等離富含電子、離子、自由基和激發態分子,其中高能電子與氣體分子(原子)發生撞,將能量轉換成基態分子(原子)的內能,發生激發、離解和電離等一系列過秸處于活化狀態。一方面打開了氣體分子鍵,生成一些單分子和固體微粒;另一力生.OH、H2O2.等自由基和氧化性極強的O3,在這一過程中高能電子起決定性作用,離子的熱運動只有副作用。常壓下,氣體放電產生的高度非平衡等離子體中電子溫層氏度)遠高于氣體溫度(室溫100℃左右)。在非平衡等離子體中可能發生各種類型的化學反應,主要決定于電子的平均能量、電子密度、氣體溫度、有害氣體分子濃度和≥氣體成分。這為一些需要很大活化能的反應如大氣中難降解污染物的去除提供了另外也可以對低濃度、高流速、大風量的含揮發性有機污染物和含硫類污染物等進行處理。
常見的產生等離子體的方法是氣體放電,所謂氣體放電是指通過某種機制使一電子從氣體原子或分子中電離出來,形成的氣體媒質稱為電離氣體,如果電離氣由外電場產生并形成傳導電流,這種現象稱為氣體放電。根據放電產生的機理、氣體的壓j源性質以及電極的幾何形狀、氣體放電等離子體主要分為以下幾種形式:①輝光放電;③介質阻擋放電;④射頻放電;⑤微波放電。無論哪一種形式產生的等離子體,都需要高壓放電。容易打火產生危險。由于對諸如氣態污染物的治理,一般要求在常壓下進行。
5、光催化和生物凈化設備
光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無毒無害的產物,而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。
從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發產生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點,具體研究中可根據需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是最廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
所以需要知道具體價格,需要確定設備類型等,想要了解更多廢氣處理設備的問題,深圳市帝龍科技有限公司。
其他答案2:
近幾年,我國隨著經濟的高速發展,城市化進程的不斷加快,由于城市規劃、工業結構和工業布局不盡合理,造成了城市功能區劃分不明顯,引發的惡臭污染事件日益增多,人們對惡臭污染的投訴也越
來越多。
深圳市帝龍科技有限公司針對惡臭污染問題的嚴重性,特研發推出廣源環保UV-光解催化除臭設
備,下面就來介紹一下本產品的原理及性能:
產品技術原理:
本產品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S,VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鍵,
使呈游離狀態的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物,如CO2,H2O等。
利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。UV+O2→O-+O(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對
有機物具有極強的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。
惡臭氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后,凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應,使惡臭氣體物質及其降解轉化成低分子化合物,水和二氧化碳,再通過排風管道
排除室外。利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸,再通過臭氧進行氧化反應,徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。
產品性能:
1、高效除惡臭:能高效去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率最高可達99%以上,脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放
標準(GB14554-93)。
2、無需添加任何物質:只需要設置相應的排風管道和排風動力,使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化,無需添加任何物質參與化學反應。
3、適應性強:可適應高濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理,可每天24小時連續工作,運行穩定可靠。
4、運行成本低:本設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查,本設備能耗低,(每處理1000立方/小時,僅耗電0.2度電能),設備風阻極低小于50PA,可節約大量排
風動力能耗。
5、無需預處理:惡臭氣體無需進行特殊的預處理,如加溫,加濕等,設備工作環境溫度在30℃-9℃之間,濕度在30%-98%,PH值在2-13之間均可正常工作。
6、設備占地面積小,自重輕:適合布置緊湊,場地狹小等特殊條件,設備占地面積<1平方米/處理10000m³/h風量。
7、優質進口材料制造:防火,防爆,防腐蝕性能高,設備性能安全穩定,采用不銹鋼材質,設備使用壽命在十五年以上。
其他答案3:
首先需要了解生產過程中產生的廢氣成分是什么,然后再根據廢氣成分去了解相對應的廢氣處理設備
有興趣了解的話可以找我
最佳回答:
加入一些活性炭或者亞鐵鹽可以催化臭氧對廢水的處理效果和處理速度.市場很多的.
最佳回答:
你好,uv光氧催化設備處理噴漆房廢氣肯定是有效果的,目前uv光氧催化廢氣處理設備主要應用于噴漆噴涂行業、電子行業、橡膠廠、制藥廠、煉油廠等可以產生有機廢氣的大部分場所。因此,能處理噴漆行業的廢氣。
他的工作原理就是將噴漆房噴漆時產生的廢氣成分、漆霧顆粒物和有機廢氣分解轉化,當然只靠uv光氧催化設備還不夠,必須先加一套前置預處理設備對廢氣進行預處理,保證沒有顆粒物的有機廢氣進入uv光氧催化廢氣處理設備中,這樣才能保證處理效果。
希望能對你有所幫助。
其他答案1:
他的工作原理就是將噴漆房噴漆時產生的廢氣成分、漆霧顆粒物和有機廢氣分解轉化,當然只靠萬川環保uv光氧催化設備還不夠,必須先加一套前置預處理設備對廢氣進行預處理,保證沒有顆粒物的有機廢氣進入uv光氧催化廢氣處理設備中,這樣才能保證處理效果
最佳回答:
光氧催化設備主要可以治理以下多種廢氣:
VOC(揮發性有機物)主要包括苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、三氯乙烯、三氯甲烷、三氯乙烷、二異氰酸酯(TDI)、二異氰甲苯酯等和揮發性惡臭氣體如不飽和烴(如丁二烯、苯乙烯)、氮化物(如氨、甲基胺、糞臭素)、硫化物(如硫化氫、硫化甲基)、氯烴(如氯仿)、含氧烴(如丙酮)、植物精油(如樟腦油)等化合物。
其他答案1:
光氧催化設備是一種專門用來處理有毒有害氣體的一種廢氣處理設備,氧氣不屬于有毒有害廢氣,所以不用處理。另外光氧催化設備利用C波段的紫外線照射氣體,還有一定的殺菌除臭效果。您在選購光氧催化設備的時候最好選擇有ISO9001資質的生產廠家。現在的市場很亂,有些以次充好,請認真鑒別。正藍用的紫外線燈管采用的是石英玻璃,光是紫外線光。劣質廠家選用的紫外線燈管為普通玻璃,而且光線為普通紫光。
其他答案2:
uv光氧催化設備主要是處理廢氣中的氨,三甲胺,硫化氫甲硫氫,甲硫醇,甲硫醚,二甲二硫,二硫化碳和苯乙烯,VOC類,苯,甲苯,二甲苯等工業廢氣。
最佳回答:
一、工作原理不同
UV光解利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H2O等
低溫等離子凈化器設備是由電源和齒板放電裝置,使其產生高強度、高濃度、高電能的活性自由基,在毫秒級的時間內,瞬間對有害廢氣分子進行氧化還原反應,將廢氣中的大部分污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質。
二、工作步驟詳解
UV光氧催化廢氣處理設備去除污染物的基本過程
1、C波段紫外線光照射廢氣
2、大分子有機氣體鏈結構斷裂
3、原子和電離子重新的進行組合
4、紫外線分解空氣中的氧分子產生游離氧,近而產生產臭氧
5、臭氧在二氧化鈦氧化劑的催化作用下進一步對廢氣進行氧化
等離子體去除污染物的基本過程
1、高能電子的直接轟擊
2、O原子或臭氧的氧化過程
3、OH自由基的氧化
4、分子碎片+氧氣的反應
三、應用范圍不同
uv光氧催化廢氣處理設備主要用于臭氣異味的凈化治理,例如污水處理廠、垃圾廠、噴涂業、噴漆房、印刷廠、橡膠廠、農藥廠、醫藥廠等的臭氣異味處理。
低溫等離子凈化器主要用于處理有油煙的氣體,例如餐飲業、垃圾焚燒、煉油廠、皮革廠等
如果您有任何問題,您可以詳詢正藍環保技術人員,我們將以專業的知識技術、優質的產品竭誠為您服務。
其他答案1:
前者是分子分解
其他答案1:
你們是什么廠?我們化工廠用的這個設備,效果還是可以的。環#保#也驗#收#通過了。
其他答案2:
正藍環保 ,我覺得不錯的
其他答案3:
光氧催化設備是專門處理有機廢氣異味除味設備,效果很好,有問題請咨詢我們。
最佳回答:
我舉個例子 如果你的是鍋爐廢棄的話 廢氣溫度達到300-500度 一般UV光解是承受不了這么高的溫度的(一般都是噴淋塔或水洗塔先處理的,沒有人用UV光解先處理的)-來自萬川環保
其他答案1:
不同廠家 設計不一樣 要求也不一樣吧
其他答案2:
300-500度
其他答案3:
光氧設備的工作環境溫度在攝氏-30℃-95℃之間,濕度在30%-98%、PH值在2-13之間均可正常工作,但正藍環保在給公司作設計方案的時候,一般要求環境溫度控制在-20~80℃之間。